2004年07月13日
アプライド マテリアルズのプレスリリース
65nmノードや45nmノードなど次世代デバイスに求められる高性能トランジスタ製造向けプロセス技術を提供するとある。
Applied Materials claims 65 nanometres breakthrough - The Inquirer
アプライド マテリアルズ、革新的な枚葉式大電流イオン注入装置Quantum Xを投入
世界最大の半導体製造装置メーカー アプライド マテリアルズのプレスリリース。
> 65nmノードや45nmノードのロジックデバイスおよび先進的DRAMの製造に求められる
> 困難かつ重要なイオン注入プロセス制御を可能にしています。
内容は全然わからないのだが(をひ、こうした技術などによってプロセスの微細化が図られているのだろう。
Posted by nueda at 2004年07月13日 09:00 JST | トラックバック | ホームに戻る
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